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高頻科技：超純工藝護航半導體制造
，助力良率與生產效率雙提升

2025-05-14 17:11:14來源：太平洋財富網

在全球半導體產業(yè)加速向先進制程迭代的大背景下,超純水的重要性日益凸顯

。作為芯片制造中清洗

、刻蝕等環(huán)節(jié)的關鍵介質,超純水的純度與穩(wěn)定性直接影響著晶圓良率與生產效率

。在這一背景下,高頻科技憑借先進的超純工藝實現電子級超純水制備,滿足了高端芯片制造的需求,更以高效節(jié)水解決方案驅動產業(yè)鏈降本增效,成為推動行業(yè)高質量發(fā)展的重要力量

。

精進超純工藝,助力半導體良率和生產效率躍升

半導體制造對超純水的要求極為嚴格,其電阻率需高達18.2MΩ·cm,且對離子、有機物

、微生物等雜質的容忍度極低

。任何微小的雜質都可能導致晶圓電路短路或性能衰減,進而影響產品性能

、降低良率,最終拖累企業(yè)生產效率

。

超純水如此高的指標要求,背后是極為復雜和精細的制備工藝。在國內,高頻科技是極少數能夠在芯片領域提供超純水系統(tǒng)的企業(yè),亦是國內首家具備12英寸14nm芯片產線超純水制備能力的系統(tǒng)供應商

。該公司長期專注超純水領域,依托資深的技術團隊,經過持續(xù)研發(fā)投入與工藝探索,其超純水系統(tǒng)制備的超純水純度可達ppt級別,離子含量僅萬億分之一,充分滿足了下游客戶生產全階段的超純水需求,為半導體良率和生產效率的提升提供了強力支撐

。

高效節(jié)水,助力降本增效可持續(xù)發(fā)展

半導體是“耗水大戶”,且隨著工藝日趨先進,對其表面清潔程度要求不斷提高,耗水量也隨之增加。以每月生產4萬片200mm晶圓的工廠為例,其日用水量可達到8000至10000噸

。而當技術節(jié)點推進至16nm甚至7nm時,同等產能的12英寸晶圓廠每日用水量將激增至約2萬噸。如何在保障超純水供應的同時,實現水資源的節(jié)約和高效利用,已成為全球半導體行業(yè)面臨的共同挑戰(zhàn)

。在此背景下,高頻科技憑借其創(chuàng)新研發(fā)的回用水系統(tǒng),為解決這一難題提供了新的思路和解決方案

。

高頻科技不僅掌握了先進的純水制備與廢水處理工藝,能夠深度凈化水質,滿足后續(xù)制程的嚴苛標準;更具備前瞻性的系統(tǒng)設計能力,通過對制程中產生的30余種廢水進行精細化分流和管理,如純水再生濃水、低濃度氫氟酸

、研磨

、酸/堿以及洗滌塔廢水等,結合針對性處理工藝,實現了廢水的高效回用

。高頻科技的項目可實現整廠用水回收率高達90%,在保障水質的同時,助力企業(yè)降本增效,實現可持續(xù)發(fā)展

。

半導體產業(yè)作為現代科技的國之重器,其發(fā)展水平已成為衡量一個國家科技實力和綜合國力的重要標志。高頻科技作為聚焦于芯片制造等電子核心產業(yè)的超純水系統(tǒng)供應商,始終以研發(fā)創(chuàng)新為驅動,持續(xù)精進超純水工藝,為我國半導體產業(yè)的高質量發(fā)展添磚加瓦

。隨著半導體產業(yè)鏈創(chuàng)新活力的不斷增強,行業(yè)正向著更先進

、更綠色的未來蓬勃發(fā)展,相信高頻科技將繼續(xù)以創(chuàng)新之力,為行業(yè)向上發(fā)展貢獻力量

。

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責任編輯：孫知兵

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